集成电路光刻

集成电路光刻-刻蚀协同工艺

在集成电路芯片制造中，光刻工艺作为图案转移的核心技术，通过精密的光学与化学过程将掩模上的电路设计逐层复制至晶圆表面，其技术演进始终围绕分辨率提升与工艺稳定性优化展开。